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四氫噻唑硫酮

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産品分類
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産品代号: H1
産品名稱: 四氫噻唑硫酮
英文名稱:Terahydrozoline thioketone
分 子 式:C3H5NS2
分 子 量:119.21
CAS NO. :96-53-7
外 觀:白色結晶體
溶 性:微溶於(yú)熱(rè)水 ,通常煮沸溶解,易溶於(yú)酒精溶液。
含 量 :≥98%
包 裝:1kg封口塑料袋;25kg紙(zhǐ)箱;25kg防盜(dào)紙(zhǐ)闆桶。
存 儲:本品爲非危險品,儲(chǔ)存於(yú)陰涼 、幹燥、通風的區域。
有 效 期:2年
分 子 式:
參考配方: 五金酸性鍍銅工藝配方-染料體系
無氰堿鋅工藝配方

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産品應用:

H1在酸銅工藝中是性能優異的填平光亮劑,與其他中間體如SP、PN、P、GISS、染料中間體等配合組成性能良好的酸銅添加劑;通常先單(dān)獨溶解後再配制光亮劑 。可适用於(yú)五金酸性鍍銅工藝、無氰堿性鍍鋅工藝。消耗量爲0.01-0.05g/KAH。
 
 
五金酸性鍍銅工藝配方
注意點:
H1與SP、PN、P、GISS、MT-480、MT-880、AESS、染料中間體等組合使用,能配制出性能優良的酸銅添加劑,鍍液中的用量爲0.0004-0.001g/L,含量低時光亮度和填平度均會下降;含量過高 ,會産(chǎn)生樹枝狀光亮條紋,可少量加入SP或用活性炭吸附電解處(chù)理。
 
 
無氰堿鋅工藝配方
注意點:
H1與鍍鋅中間體BPC、IZE、WT、DPE-III等組合使用,能配制出性能優良的堿性鍍鋅添加劑,鍍液中的用量爲0.01-0.02g/L,含量低時,光亮度下降,含量過高,鍍層(céng)容易産(chǎn)生脆性,可加入柔軟劑消除脆性或小電流電解處理。



〖上一個産品:GISS 酸銅強光亮走位劑〗    〖下一個産品:M 2-巯基苯骈咪唑


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