酸銅強整平劑

POSS具有優異的整平性和光亮性，在0.2-10A/dm²的範圍内均能得到高光亮鍍層
，可以取代傳統的M、N、H1，耐強酸，在酸性溶液中穩定，克服瞭M在酸性溶液中易析出的弊病；POSS用量範圍寬，即使超出正常使用範圍2倍，也不會出現麻砂、針孔、低區漏鍍、高區毛刺
、燒焦、表面發霧等現象，耐高溫，最高可達42℃低區仍不發紅；與M、N、H1及國内外染料體系均兼容，無副作用，特别适用於五金酸性鍍銅工藝。POSS消耗量： 0.5-1g/KAH。

 

注意點：

POSS與M、N、GISS、SPS、PN、PPNI、PNI、CPSS、P、MT-580、MT-480、等其中的幾種中間體合理搭配，組成無染料型酸銅光亮劑，POSS建議工作液中的用量爲0.03-0.05g/L，鍍液中含量過低，鍍層(céng)整平性及光亮度下降；含量過高，鍍層(céng)低區容易斷層(céng)，可活性炭電解處(chù)理。

 

注意點：

POSS與MTOY、MDER、MDOR；DYER、DYEB、MT-580、MT-880、MT-480、PNI等中間體合理搭配，組成染料型酸銅光亮劑。建議工作液中的用量爲0.04-0.08g/L，鍍液中含量過低，鍍層整平性及光亮度下降；含量過高，鍍層低區容易斷層，高區易産生針孔麻點，可活性炭電解處理。