硬鉻電鍍添加劑

 

硬鉻電鍍工藝不含氟，陰極效率高，深鍍能力好，成本低，性能穩定。而且可産生硬度達到1000HV、0.1的微裂紋硬鉻
。HVSS硬鉻電鍍工藝兼有傳統硫酸型電鍍液的優良特性，隻對鐵及鐵合金産生輕微腐蝕，且有良好的陰極電流效率，可達27%（傳統工藝隻能依靠含氟的催化劑）。可廣泛應用於(yú)耐磨鏡面工件以及印刷機滾筒等各個領域，並(bìng)且可在各種基材上鍍出所需的厚度。

 

 

主要成分，工藝參數	最佳	範圍
溫度	55℃	42℃～60℃
陰極電流密度	50 A/d㎡	10～100A/d㎡
陽極電流密度	15 A/d㎡	5～30A/d㎡
電壓及整流器	依據情況不同，可分爲5～15V，波紋小於5%
陽極攪拌	不需。應盡量使用滾動攪拌
空氣攪拌	建議不用
過濾	從一個槽過濾到另一個槽，僅在鍍液反常時使用
鍍速	55 A/d㎡，55℃時，約爲1μm/min
鍍液成分
鉻酐	240～320g/L   建議新開缸用到300克
硫酸：鉻酐	1.1～1.4%
密度（新開缸 、鉻酐濃度爲300g/L時）	1.215g/cm3
	25.5°Be

五、鍍液的補充與維護

1. 維護：

                 範(fàn)圍(wéi)

鉻酸 240 ~300 g/L

硫酸 1.1~ 1.4%   （與鉻酸的濃度有關）

 

2. 鍍液的補充：

如需添料，請在測量波美或分析後進行。一般，每周需測一次波美。鍍液密度會在電鍍過程中下降
，每添加大約1.5㎏鉻酸酐可使100升鍍液升高1°Be，每添加100公斤鉻(gè)酸酐需補(bǔ)加HVSS 8-10升
。

正確(què)調整硫酸根含量通過分析數據分步處(chù)理：

> 提高1克/升單(dān)位的硫酸根需要加0.55毫升/升分析純(chún)硫酸（98%）

> 降低1克/升單(dān)位的硫酸根需要加2克/升碳酸鋇(bèi)

鉻酸的分析：

試劑：

H₂SO₄                1:10

KI溶液               100g/L

澱粉溶液            20g/L

Na₂S₂O₃溶液      0.1N 

 

 

g/L鉻(gè)酸 = 硫代硫酸鈉的滴定體積(jī)（mL）× 16.7