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霍爾槽（哈式槽）試驗及結果解讀
一．霍爾槽是一種試驗效果好，操作簡單 、所需溶液體積小的小型電鍍試驗槽 。它可以較好的確(què)定獲得外觀合格鍍層(céng)的電流密度範圍及其它工藝條件。生産現場常用來快速解決鍍液所發生的問題 。
二．小型霍爾槽結構
下面是工廠(chǎng)電鍍制程控制常用的霍爾槽基本結構(市面上可以購買到帶(dài)加熱、通入壓縮空攪拌孔等設計精良的成品)
霍爾槽結構示意圖
三.霍爾(ěr)槽的試驗裝置及實(shí)驗方法
1.試驗裝置:
2.試驗方法
a.溶液的選擇 爲瞭(le)獲得正確(què)的試驗結果 ，選擇的溶液必須具有代表性 。重複試驗時 ，每次試驗所取溶液的體積應相同。當使用不溶陽極時，溶液經1~2次電鍍後應更換新液。如採用可溶性陽極則最多試驗4~5次後更換新液 。在測微量雜質或添加劑的影響時，每槽試驗次數應酌情減少 。
b.陰陽極材料的選擇 陰陽極材料通常是平面型薄闆 ，陽極厚度不超過(guò)5MM，陰極厚度爲0.2~1MM，陽極材料應與生産(chǎn)中使用的陽極相同。
c.電(diàn)流大小 霍爾(ěr)槽電(diàn)流大小通常在0.5~2A範圍内。
d.試驗時間(jiān)及溫度 一般在5~10分鍾，試驗溫度應與生産(chǎn)相同。
四.霍爾(ěr)試片判定(以鍍(dù)錫爲例)
1.背面 背面看片原則:先看背面的異(yì)常現(xiàn)象,再判定可能造成的原因.
a.先從(cóng)HULLCELL片背面中間剖開,再看高電(diàn)流密度區(添加劑)與低電(diàn)流密度區(開缸劑)有沒有失去平衡:(例如往高電(diàn)流密度區縮小是添加劑不足,往低電(diàn)流密度區縮小是開缸劑不夠).
b.看三層(céng)雲分布:正常HULLCELL片背後(hòu)會出現三層(céng)雲（即亮層(céng)/濃霧層(céng)/淡霧層(céng)）如下示意圖.
HULLCELL片背面區(qū)域
c.如果爲全濃霧或無亮,判定是添加劑或補(bǔ)充劑不夠(gòu),酸不足,建浴劑不足.
d.如果都是淡淡的薄霧濃霧少,且将要收縮,可能是添加劑(jì)或酸過(guò)量.
e.有出現三層(céng)雲,向中間凹進去的話,主要原因有主鹽不夠(gòu)或沉積速率不夠(gòu).沉積速率不夠(gòu)可能原因爲(添加劑過量或不足b;酸不足)。
2.看正面 正面看片原則:由正面現(xiàn)象來(lái)驗證或排除第一項的可能原因
HULLCELL片正面示意圖(tú)
a.看高中低電(diàn)流密度區光澤分布狀況:與高電(diàn)流密度區是否有有機(jī)分解污染及界面與低電(diàn)流密度區是否有無機(jī)析出。
b.若高電(diàn)流密度區發(fā)黃,且高中電(diàn)流密度區很亮和界面及低電(diàn)流密度區有無機析出，判定爲添加劑或酸過量。
c.若高電(diàn)流密度區發黃，加上高中電(diàn)流密度區粗糙，界面和低電(diàn)流密度區無無機析出，判定爲添加劑；補(bǔ)充劑；建浴劑或酸不足 。
d.若低電流密度區有雙層(céng)霧則判定爲添加劑或補(bǔ)充劑與酸不足.
e.可以用焊錫來左證判定：如果拒焊是添加劑或酸過(guò)量造成有機(jī)分解；如果不拒焊是添加劑；開缸劑或酸不足。
f.在霍爾(ěr)槽中,還(hái)可以用添加反向之藥品的方法來判定是否有異常的問題。
3.看操作條(tiáo)件 來(lái)驗證或排除第一項之可能造成原因。
a.主鹽/溶解質/酸錫比/電(diàn)壓高低/PH值/溫度/陽極溶解狀況[主鹽/溶解質/酸錫比/電(diàn)壓高低看哈氏片；PH值/溫度/陽極溶解狀況看現場(chǎng)]。
b.PH值高容易造成無機(jī)析出及有機(jī)分解；溫(wēn)度高易造成有機(jī)分解。
c.從(cóng)陽極溶解狀況觀察:光亮表示溶解質過量；灰色表示正常;黑色表示有點(diǎn)過量；黃色是嚴重過量。
d.電(diàn)壓(yā)高證明主鹽高與溶解質不足。
4.利用第二項和第三項去除第一項現(xiàn)象，與可能原因加以分析並(bìng)得出真正原因。
5.根據(jù)第四項，用最快最有效最節(jié)約成本的方法來改善與解決問題。